本文源自:金融界
金融界 2024 年 8 月 30 日消息，天眼查知识产权信息显示，嘉兴驭光光电科技有限公司取得一项名为“微纳光学器件制造方法“，授权公告号 CN112731774B，申请日期为 2020 年 12 月。
专利摘要显示，本申请公开了一种微纳光学器件制造方法，该方法包括：利用半导体光刻和刻蚀工艺在晶圆上形成第一微纳结构；在晶圆上涂敷光刻胶；将第一区域中的光刻胶完全移除，以露出至少部分第一微纳结构，并对第二区域中的光刻胶进行灰度曝光，以在第二区域的光刻胶上形成第二微纳结构；以及将第一和第二微纳结构转印到待加工材料的表面上。根据本发明实施例，通过在已经经过半导体光刻刻蚀工艺处理的晶圆上涂覆灰度曝光用的光刻胶并选择性地进行部分区域的完全除胶和部分区域的灰度曝光，在一个统一的制作流程中融合了两种不同的微纳结构制作工艺；相应地，可以实现不同的微纳结构的构造制作。